中微公司(688012):Q2业绩符合预期 新产品新工艺不断验证

2023-08-28 09:00:05 和讯  中信建投证券吕娟/陈宣霖
  核心观点
  2023 年上半年公司营收同比增长28%,其中刻蚀设备、MOCVD设备同比分别增长33%、24%,刻蚀设备增速更高;业绩实现高增,主要系公司出售部分持有拓荆股票。截至2023H1 存货38.1亿元,同比+53.0%,合同负债18.0 亿元,同比+13.2%,预计在手订单持续增长。公司核心产品进展不断,刻蚀设备CCP 竞争力增强,ICP 多个产品进展迅速,预计工艺覆盖率将达到50%-70%;MOCVD 设备保持领先地位,积极开拓新领域;薄膜沉积设备新产品不断突破,全面拓展先进金属CVD 和ALD 设备产品市场。
  事件
  2023 年上半年,公司实现营业收入25.27 亿元,同比增长28.13%,归母净利润10.03 亿元,同比增长114.40%,扣非后归母净利润5.19 亿元,同比增长17.75%。其中,Q2 单季度实现营业收入13.03亿元,同比增长27.46%,归母净利润7.28 亿元,同比增长107.53%,扣非后归母净利润2.91 亿元,同比增长14.46%。
  简评
  Q2 业绩符合预期,预计在手订单维持增长
  营收稳健增长,利润受益出售拓荆股票大幅增长。营收端,2023H1公司营收25.27 亿元,同比+28.13%,其中Q2 单季度实现营收13.03 亿元,同比+27.46%。营收稳健增长,主要得益于公司拳头产品刻蚀设备市占率不断提升,上半年营收增长32.53%,CCP设备已实现多次批量销售,ICP 设备不断核准更多刻蚀应用,迅速扩大市场并不断得到领先客户的批量订单,另一大主打产品MOCVD 保持领先地位,上半年营收增长24.11%。利润端,上半年归母净利润10.03 亿元,同比+114.40%,扣非后归母净利润5.19亿元,同比+17.75%,毛、净利率分别为45.89%、39.67%,同比分别+0.52pct、+16.01pct,扣非后净利率20.54%,同比-1.81pct;其中Q2 单季度实现归母净利润7.28 亿元,同比+107.53%,扣非后归母净利润2.91 亿元,同比+14.46%,毛、净利率分别为45.90%、55.80%,同比分别+0.63pct、+21.62pct,扣非后净利率22.33%,同比-2.54pct,归母净利润高增主要系上半年公司出售部分持有的拓荆科技股票,产生税后净收益约4.06 亿元。
  存货、合同负债同比提升,预计在手订单维持增长。截至2023H1 存货38.05 亿元,相比去年同期+52.98%,相比2022 年底+11.85%;合同负债18.05 亿元,相比去年同期+13.20%,相比2022 年底-17.77%。其中合同负债相比2022 年底略有下滑我们推测主要系产品结构变化影响,付款条件更好的MOCVD 设备在订单中比例下降,预计公司在手订单维持良好增长。
  核心产品刻蚀与MOCVD 设备竞争力持续提升,薄膜沉积设备加速布局刻蚀设备:CCP 竞争力增强,ICP 进展迅速。2023H1 刻蚀设备收入17.22 亿元,同比+32.53%,毛利率达46.16%,同比+0.11pct。(1)CCP:公司 CCP 设备已对28 nm 以上的绝大部分应用和28nm 及以下的大部分应用形成较为全面的覆盖。截至2023Q2,已累计生产付运超过2500 个CCP 刻蚀反应台。逻辑领域,应用于28nm 及以下的大马士革刻蚀工艺的SD-RIE 进入客户验证阶段,存储领域,超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的能力。(2)ICP:公司产品已在50 多个客户的生产线上量产,持续进行更多刻蚀应用的验证。Nanova VE HP 和LUX 新产品推出后,公司未来工艺覆盖率有望扩展到50%-70%,目前VE HP 在DRAM的高深宽比的多晶硅掩膜应用,已在客户产线上认证成功,LUX 也发货至多个客户产线验证。Twin-Star 在海内外客户的逻辑芯片、汽车功率器件 Power Device、微型发光二极管 Micro-LED、AR 眼镜用的超透镜 Meta Lens等特色器件的产线上实现量产并取得重复订单。深硅刻蚀设备在晶圆级先进封装、2.5D 封装和微机电系统芯片生产线等成熟市场继续获得重复订单,在12 英寸3D 芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证,并在欧洲客户新建的12 英寸微机电系统芯片产线获得认证机会。
  MOCVD 设备:保持领先地位,积极开拓新领域。2023H1 MOCVD 设备收入2.99 亿元,同比+24.11%,毛利率达37.90%,同比+2.48pct。公司持续保持国际氮化镓基MOCVD 设备市场领先地位,并开启新领域拓展,针对Micro-LED 应用的专用MOCVD 设备正开发中。公司已启动碳化硅功率器件外延生产设备,后续将与潜在客户合作开展实验室样品测试,并于2023 年内交付样机至客户端验证。
  薄膜沉积设备:全面拓展先进金属CVD 和ALD 设备。公司首台CVD 钨设备2022 年底付运关键存储客户端验证评估,如期完成多道工艺验证,更多应用正在验证当中。另外,公司开发了新型号CVD 钨和ALD 钨设备,以实现更高深宽比结构的材料填充,已通过关键客户实验室测试,首台量产验证机已在客户端进行测试。ALD氮化钛设备也取得重大进展,预期在2023 年下半年发往客户端进行量产验证。
【免责声明】本文仅代表第三方观点,不代表和讯网立场。投资者据此操作,风险请自担。
(责任编辑:王丹 )

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