盛美上海：推出新型刻蚀设备 9 月 4 日

【9 月 4 日，盛美上海官方公众号消息，其推出用于扇出型面板级封装应用的新型 UltraCbev-p 面板边缘刻蚀设备。】 该设备专为铜相关工艺中的边缘刻蚀和清洗设计，能同时处理面板正背面的边缘刻蚀。这提升了工艺效率和产品可靠性。

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