新三板创新层公司立光电子新增专利信息授权:“一种磁控溅射旋转阴极结构”

2024-10-30 22:40:32 和讯 

快讯摘要

新三板创新层公司立光电子新增专利信息授权:“一种磁控溅射旋转阴极结构” 每经讯,据启信宝,新三板创新层公司立光电子(874135)新增专利信息,专利权人为立光电子,发明人是胡超川、傅强、...

快讯正文

新三板创新层公司立光电子新增专利信息授权:“一种磁控溅射旋转阴极结构” 每经讯,据启信宝,新三板创新层公司立光电子(874135)新增专利信息,专利权人为立光电子,发明人是胡超川、傅强、朱磊、毛祖攀。专利授权日为2024年10月29日,专利名称为“一种磁控溅射旋转阴极结构”,专利类型为中国实用新型专利,专利申请号为CN202420568697.1。 该专利摘要显示:本实用新型公开了一种磁控溅射旋转阴极结构,所述结构包括结构主体,所述结构主体包括工艺气路,工艺气路包括主气管和多段辅助气管分段调节,所述结构主体还包括端头护罩、上端支撑护罩、靶材卡箍护罩,本方案采用分段布气,采用主气管和多段辅助气管分段调节,主气管量程1000sccm,通入50?300sccm氩气,50?300sccm氧气,通过质量流量计混合后进入真空箱体阴极靶位处,七段辅助气管通入氩气、氧气有效改善均匀性,辅助气管量程100sccm,通入0?50sccm氩气、0?50sccm氧气,依据测试均匀性结果分别调整通入气体量,有效改善均匀性。 ? (记者曾健辉) 免责声明:本文内容与数据仅供参考,不构成投资建议,使用前核实。据此操作,风险自担。 每日经济新闻

(责任编辑:王治强 HF013 )
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