中微公司(688012)：业绩再创新高 高端刻蚀设备付运量增速明显

　　事件：公司发布2024 年三季报，2024 年前三季度公司实现营收55.07 亿元，同比+36.27%；实现归母净利润9.13 亿元，同比-21.28%；实现扣非净利润8.13 亿元，同比+10.88%。其中，公司2024 年Q3 实现营收20.59 亿元，同比+35.96%，环比+11.77%；实现归母净利润3.96 亿元，同比+152.63%，环比+48.11%；实现扣非净利润3.30 亿元，同比+53.79%，环比+49.92%。
　　营收再创新高，刻蚀设备付运量显著提升：2024 年前三季度，公司业务规模持续扩大，刻蚀设备销售收入显著提升，使得公司营收再创新高。盈利能力方面，2024 年前三季度，公司毛利率为42.22%，同比-1.23pcts，毛利率变化主因系确认收入的产品结构变化带来的正常波动；净利率为16.56%，同比-12.11pcts，净利率下降的主因系1）研发支出增加；2）投资收益大幅减少。费用方面， 2024 年前三季度公司销售/管理/研发/财务费用率分别为5.79%/5.65%/16.60%/-1.06% ， 同比变动分别为-0.19/+0.58/+4.17/+0.51pcts，研发费用同比大幅提升主因系公司保持业绩持续增长而明显加大研发力度。
　　订单持续增长强劲，各领域产品成果颇丰：2024 年前三季度，公司新增订单76.4 亿元，同比增长约52.0%。其中刻蚀设备新增订单62.5 亿元，同比增长约54.7%；LPCVD 新增订单3.0 亿元，新产品开始启动放量。公司各领域产品成果颇丰，1）CCP，2024 年前三季度交付超1000 个反应台，累计交付超3800 个反应台；先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。2）ICP，在先进逻辑和存储芯片中关键ICP 刻蚀工艺的高端ICP 设备付运大幅提升；Primo Twin-Star在多个客户获得重复订单。3）LPCVD，已确认首台设备销售收入，钨系列产品取得多个系统量产订单，新增多家客户装机量，设备验证有序推进；多款CVD 和ALD 设备研发顺利推进，增加薄膜设备的覆盖率。4）EPI，机台已顺利进入客户端量产验证阶段；已完成多家先进逻辑器件与MTM 器件客户的工艺验证,并且结果获得客户高度认可。5）MOCVD，PRISMO UniMax在Mini-LED 显示外延片生产设备领域处于国际领先；制造Micro-LED 应用的新型MOCVD 设备在客户端进行验证测试；用于碳化硅功率器件外延生产的设备付运到客户端开展验证测试。
　　中国半导体设备市场增长迅速，持续受益行业增长及市占率提升：SEMI 统计报告显示，2023 年中国大陆成为全球最大的集成电路设备市场，占比达到35%。另外，根据Gartner 数据统计，2018 年到2025 年全球芯片生产线建设项目共计171 座新产线，其中74 座位于中国大陆，区域占比最高达43%。
　　此外，WSTS 预计，2024 年全球半导体销售额从2023 年的5,269 亿美元增长了16%，达到创纪录的6,112 亿美元。预估2025 年全球半导体市场产值将进一步增长12.5%，达到6,874 亿美元。半导体设备市场机会巨大，随着市场对公司开发多种新设备的需求急剧增长，公司今年持续加大研发投入，2024 年前三季度，研发投入达15.44 亿元，同比增长95.99%，占收入比例的28.03%。公司在研项目涵盖六大类设备、20 多种新设备。公司根据技术发展及客户需求，大力投入先进芯片制造技术中关键刻蚀设备的研发和验证，其中，公司的等离子刻蚀设备技术能力已经达到5nm 及以下，市场占有率不断提升并不断收到行业领先客户批量订单；今明两年，公司会新增10 余类薄膜沉积设备产品交付客户，公司将受益行业的增长趋势，同时继续扩大在主要客户产品线上的占有率，公司订单及业绩增速有望保持高速增长。
　　上调至“买入”评级：公司加速推进半导体设备平台化布局，公司刻蚀、薄膜沉积、MOCVD 设备已达国际先进水平。我们看好下游半导体制造产业增长趋势，公司持续深耕集成电路关键设备领域，未来公司业绩有望受益半导体行业恢复上行进而持续增长，故上调至“买入”评级。考虑到公司为不断提升产品竞争力而保持较高的研发投入，一定程度影响利润端表现，故调整公司2024-2025 年的盈利预测。预计公司2024-2026 年归母净利润为17.88/24.10/32.96 亿元，对应EPS 为2.87/3.87/5.30 元，对应PE 为74/55/40倍。
　　风险提示：行业景气度波动风险；下游需求不及预期；国际贸易摩擦加剧风险；市场竞争加剧风险。
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