12 月 26 日，国家知识产权局就集成电路布图设计保护条例修改草案征求意见，完善保护制度，促进产业发展。
【12 月 26 日，国家知识产权局就《集成电路布图设计保护条例修改草案》公开征求意见。】意见稿表明，要完善登记注册和确权程序，从源头强化知识产权保护。还指出要加强布图设计专有权保护，维护权利人合法权益，新增独创性声明相关制度以及专有权保护范围的确定规则。同时，促进布图设计实施和运用，新增职务创作中的奖酬措施，以助推新质生产力发展。
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