低端国产光刻机大幅放量，高端进入量产拐点

以下是为您生成的中文快讯： 英伟达公告称，美国政府要求对出口至中国及 D-5 国家的 H20 集成电路等需获许可证，该要求无限期生效。预计英伟达 2026 财年一季度业绩将受约 55 亿美元损失，盘后下跌约 5%。这一限制给客户带来极大不确定性，国产卡面临量价齐升拐点。同时，美 BIS 正式出台半导体及制造设备调查通知。光刻机板块调整 1 个月，利空因素基本消化。低端国产光刻机今年大幅放量，高端进入量产拐点，存量维保翻新市场需求增量，国产 EUV 进度将上修。Q2 产业景气度向上，预计有密集送样和订单落地，年内产业端和个股经营端预计催化不断。