国产光刻机突破，晶方科技前景佳

8月，璞璘科技自主研发的首台纳米压印设备验收交付，打破国外技术垄断。该设备关键指标超国际巨头，还大幅缩减成本，但纳米压印光刻工艺在复杂逻辑芯片生产上有效率瓶颈，EUV极紫外光刻机仍不可或缺，我国在技术复杂性和供应链方面存在不足。不过，我业正逐步突破，如炬光科技、茂莱光学、华卓精科等。晶方科技通过并购进入光学器件市场，成为ASML供应商，且业绩亮眼。2025年一季度营收和净利润双升，预计上半年净利润大增。其“两条腿走路”策略使盈利能力居行业前列，随着半导体市场回暖，汽车市场将成其芯片封装业绩增量主要来源，有望分享智能汽车行业红利。