盛美上海(688082)：023年有望延续高增速 公司持续推出新品类加速成长

　　盛美上海作为国内领先的半导体湿法设备厂商，持续推进产品多元化战略布局，公司预期2023 年全年的营业收入36.5~42.5 亿人民币，同比+35.4%~76.0%，继续保持高速增长。我们预计未来国内晶圆厂对国产半导体设备的需求将显著提升，公司作为国内领先的平台型设备企业料将持续受益。考虑到公司依然处于快速成长期，我们给予公司2023 年15 倍PS，对应目标价135 元，维持“买入”评级。
　　 公司预计2023 年全年营业收入36.5~42.5 亿元，较2022 年预期同比+35.4%~76.0%。根据公司公告，综合近年来的业务发展趋势，以及目前的订单等多方面情况，公司预计2023 年全年的营业收入36.5~42.5 亿人民币，符合我们此前预期。2022 年初，公司披露2022 年营业收入预计区间为3.45~3.85 亿美元，折合人民币约24.15~26.95 亿元。公司预计2023 年营业收入实现同比增长35.4%~76.0%，对比2018-2021 年CAGR 43.38%，2023 年公司有望维持此前的高增速态势，主要原因之一是公司自成立以来，从聚焦单片兆声波清洗设备开始，根据市场需求不断扩展产品业务，到现在形成了集成电路专用清洗系列设备、前道铜互连及先进封装电镀设备、先进封装湿法设备和立式炉管设备等产品阵列，22Q4 又陆续推出前道涂胶显影Track 设备和PECVD 设备等新产品，持续扩大产品类别，可覆盖市场空间显著提升。
　　 新产品系列一：前道涂胶显影Track 设备，Gartner 预计2022 年全球市场空间约37 亿美元。盛美上海于2013 年开发了首个封装涂胶机和显影机，并于2014年交付了给客户。根据公司公告，公司于2022 年11 月18 日成功推出涂胶显影Track 设备，将于几周后向中国国内客户交付首台ArF 工艺涂胶显影Track设备，并将于2023 年推出i-line 型号设备。此外，公司已开始着手研发KrF 型号设备。根据公司公开信息，盛美上海Track 设备是一款应用于300 毫米晶圆工艺的设备，共有4 个适用于12 英寸晶圆的装载口，8 个涂胶腔体、8 个显影腔体，将支持包括i-line、KrF 和ArF 系统在内的各种光刻工艺。Gartner 预测，2022 年全球Track 市场规模将达37 亿美元。鉴于全球逻辑及存储器制造商正在寻求第二供应商，我们预计此款产品会有较大机会占有一定的市场份额。
　　 新产品系列二：进军PECVD 市场，支持逻辑和存储芯片制造，全球市场规模约59 亿美元。2022 年12 月12 日，公司推出拥有自主知识产权的Ultra PmaxPECVD 设备，公司预计将在几周内向中国的一家集成电路客户交付其首台PECVD 设备。该设备采用单腔体模块化设计，配置了自主知识产权的腔体、气体分配装置和卡盘设计，能够提供更好的薄膜均匀性，更小的薄膜应力和更少的颗粒特性。根据Gartner 统计，CVD（PECVD、管式CVD、非管式LPCVD、MOCVD 等）作为薄膜沉积设备的主要产品，在2021 年全球薄膜沉积设备市场中占比约62%，其中PECVD 设备占比最高，占整体薄膜沉积设备市场的31%，全球市场规模约为59 亿美元。
　　 湿法设备：湿法设备年新增出货约1000 腔，新增金属剥离（MLO）功能扩大下游应用场景。湿法设备为公司的传统业务，公司预计2022 年清洗设备销售量占比维持在70%左右。根据公司公告，2022 年11 月16 日，盛美上海的湿法设备已顺利交付3000 腔，其中，清洗设备工艺应用覆盖率已超过80%，未来有望超过90%，全部产品覆盖市场空间达到近85 亿美元。2021 年10 月18 日，盛美上海公告半导体湿法设备2000 腔顺利交付，仅用一年左右的时间就达成湿法设备3000 腔顺利交付的成就。此外，公司为Ultra C pr 设备拓展了金属剥离
【免责声明】本文仅代表第三方观点，不代表和讯网立场。投资者据此操作，风险请自担。

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