掩模版市场规模持续增长，高端国产化率仅3%！选对个股，把握“掩模”投资机会！

背景介绍：掩模版是半导体制造工艺中的关键材料，用于半导体制造的光刻环节。掩膜版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体，光掩膜约占芯片材料总成本的13%。全球半导体掩膜版市场规模预计将继续增长，但高端光掩膜版国产化率仅为3%，光掩膜上游材料和设备亟待突破。 投资策略： 1. 以核心竞争力和未来布局卡位为抓手精选个股； 2. 受益标的：路维光电、清溢光电。 风险提示：下游需求不及预期、技术迭代风险、客户拓展不及预期、中美贸易摩擦加剧。

“听说半导体掩模版市场要增长，可国内光掩膜上游材料和设备却还停留在3%，真是‘掩’不住这个尴尬啊。”

和讯自选股写手

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