中微公司(688012)：Q3营收增长提速 非经亏损影响利润-半导体设备系列报告

　　核心观点
　　2023Q3 公司营收同比增长41.40%，环比上半年有所提升，结构上刻蚀设备收入高增，同比+63.53%，MOCVD 设备受景气低迷影响，收入同比-25.02%；归母净利润同比-51.76%，主要系二级市场股价波动影响，公司非经常性损益亏损0.58 亿元，同比减少1.80 亿元，另外费用支出有所提升。展望后续，公司刻蚀设备产品力领先，工艺覆盖率不断提升，充分受益于先进制程扩产，并积极拓展薄膜沉积领域，未来订单表现值得期待。
　　事件
　　2023 年前三季度，公司实现营业收入40.41 亿元，同比增长32.80%，归母净利润11.60 亿元，同比增长46.27%，扣非后归母净利润7.34 亿元，同比增长13.94%。其中，Q3 单季度实现营业收入15.15 亿元，同比增长41.40%，归母净利润1.57 亿元，同比下降51.76%。扣非后归母净利润2.15 亿元，同比增长5.68%。
　　简评
　　Q3 营收增速环比提升，非经亏损影响Q3 利润
　　Q3 营收增速环比提升，刻蚀设备实现高增、MOCVD 下滑。公司前三季度实现营收40.41 亿元，同比+32.80%。分业务来看，前三季度刻蚀设备收入28.70 亿元，同比+43.40%，毛利率46.46%；MOCVD 设备收入4.09 亿元，同比+5.50%，毛利率36.29%。毛利率更高的刻蚀设备增长较好，MOCVD 实现微增。单季度表现来看，Q3 实现营收15.15 亿元，同比+41.40%，增速相比上半年环比提升，其中刻蚀设备收入11.48 亿元，同比+63.53%；MOCVD设备收入1.10 亿元，同比-25.02%，刻蚀设备实现高增，MOCVD受行业景气低迷影响有所下滑。
　　毛利率维持稳定，非经常性损益亏损与费用增加影响Q3 净利率。
　　前三季度归母净利润11.60 亿元，同比+46.27%，扣非净利润7.34亿元，同比+13.94%。盈利能力方面，毛利率、净利率、扣非后净利率分别为45.83%、28.67%、18.15%，同比分别+0.32pct、+2.66pct、-3.00pct。其中Q3 单季度归母净利润1.57 亿元，同比-51.76%，扣非后净利润2.15 亿元，同比+5.68%，盈利能力方面，毛利率、净利率、扣非后净利率分别为45.74%、10.32%、14.18%，　　同比-0.04pct、-20.00pct、-4.79pct。毛利率基本维持稳定，Q3 净利率出现较大程度下滑，主要系：（1）二级市场股价波动影响，公司非经常性损益亏损0.58 亿元，相比去年同期减少1.80 亿元；（2）费用支出提升，Q3 销售、管理、研发、财务费用率同比分别+0.13pct、+0.99pct、+0.00pct、+2.98pct。
　　预计公司订单维持较好水平，后续表现值得期待。截至2023Q3，公司存货40.91 亿元，相比H1 末增长7.52%；合同负债13.65 亿元，相比H1 末减少24.3%。我们认为合同负债环比下滑主要受收款节奏影响，公司订单维持较好水平，2023 年底开始下游头部晶圆厂有望开启批量招标，公司订单将有显著环比改善。
　　核心产品刻蚀设备份额可期，薄膜沉积设备加速布局刻蚀设备：CCP 竞争力增强，ICP 进展迅速，有望实现工艺全覆盖。公司 CCP 设备已对28 nm 以上的绝大部分应用和28nm 及以下的大部分应用形成较为全面的覆盖。逻辑领域，应用于28nm 及以下的大马士革刻蚀工艺的SD-RIE 进入客户验证阶段，存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的能力。ICP 方面，新产品推出后公司未来工艺覆盖率有望扩展到50%-70%，深硅刻蚀设备在晶圆级先进封装、2.5D 封装和微机电系统芯片生产线等成熟市场继续获得重复订单。
　　薄膜沉积设备：发力 CVD、ALD 设备。公司首台CVD 钨设备2022 年底付运关键存储客户端验证评估，如期完成多道工艺验证，更多应用正在验证当中。另外，公司开发了新型号CVD 钨和ALD 钨设备，以实现更高深宽比结构的材料填充，已通过关键客户实验室测试，首台量产验证机已在客户端进行测试。ALD 氮化钛设备也取得重大进展。
　　投资建议
　　预计公司2023-2025 年实现归母净利润分别为14.63、18.29、24.75 亿元，同比分别增长25.09%、24.97%、35.36%，对应PE 分别为69.95x、55.97x、41.35x ，维持“买入”评级。
【免责声明】本文仅代表第三方观点，不代表和讯网立场。投资者据此操作，风险请自担。

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