中微公司(688012):23Q3收入高增 高端刻蚀设备进展顺利

2023-11-08 08:55:06 和讯  中泰证券王芳/杨旭/游凡
  事件概述:
  公司发布23Q3 季报:Q3 收入15.15 亿元,YoY+41%、QoQ+16%;归母净利1.57 亿元,YoY-52%、QoQ-78%;毛利率45.74%,YoY-0.04pcts、QoQ-0.16pcts。
  利润下滑系期间费用增加、投资收益减少
  Q3 利润环比下滑程度较大,主要系:1)期间费用增加1.2 亿元;2)财务费用的正收益减少3400 万元(23Q2 有较多利息收入);3)投资净收益减少3.5 亿元(23Q2 出售部分拓荆股权取得的收益);4)公允价值变动净收益减少2.2 亿元(公司持有的上市公司股权价格波动所致)。
  刻蚀业务高增,产品结构升级
  刻蚀业务增速快于整体增速:23 年前三季度营业收入同比增长32.80%达40.41 亿元,而同期刻蚀设备收入增长43.40%达28.70 亿元;单三季度刻蚀收入11.48 亿元,经测算同比增长64%、环比增长26%——均显著快于公司整体营收增速。MOCVD 受景气低迷拖累:经测算,MOCVD23Q3 收入1.1 亿元,YoY-25%、QoQ-17%,主要系下游LED 行业景气低迷、对设备需求量减少。
  高端存储刻蚀已开展验证,CVD 钨设备快速突破1)刻蚀:逻辑领域,公司12 寸高端刻蚀设备已在从65 纳米到5 纳米的各个技术结点大量量产,并着力改进性能以满足5 纳米技术以下的若干关键步骤加工的要求;存储领域,公司致力于提供超高深宽比掩膜(≥40:1)和超高深宽比介质刻蚀(≥60:1)的全套解决方案,目前这两种设备都已经开展现场验证、进展顺利。2)薄膜沉积:公司短时间实现多种LPCVD 设备的研发交付以及ALD 设备的重大突破,其中CVD 钨设备能满足先进逻辑器件接触孔填充、DRAM 器件接触孔应用、3D NAND 器件中的多个关键应用需求;ALD 钨设备,能够满足3D NAND 等三维器件结构中金属钨的填充需求,公司还在开发另一ALD 产品系列,能够满足先进逻辑和存储器件中金属阻挡层和金属栅极的应用需求。3)MOCVD:Prismo A7设备已在全球氮化镓基LED MOCVD 市场居领先地位;用于Mini-LED 生产的Prismo UniMax,已在领先客户端大规模量产;用于硅基氮化镓功率器件Prismo PD5已获得重复订单,用于碳化硅功率器件外延生产的设备正在开发中,即将开展样机在客户端的测试。
  投资建议
  结合公司前三季度业绩情况,我们调整公司2023/24/25 年归母净利预测为14/18/22 亿元(此前预测为16/18/22 亿元),对应PE 为73.5/56.4/45.8 倍。考虑到公司作为国内刻蚀、MOCVD 设备领军企业之一,有望助力国产存储高端突破,维持“买入”评级。
  风险提示
  新产品开发、推向市场不及预期;大客户需求不及预期;来自同行竞争加剧的风险。
【免责声明】本文仅代表第三方观点,不代表和讯网立场。投资者据此操作,风险请自担。
(责任编辑:王丹 )

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