国内领先半导体掩模版厂商龙图光罩拟融资6.63亿元，抢占光刻工艺核心地位！

新股概况：龙图光罩是一家半导体掩模版的研发、生产和销售企业，是国内独立第三方半导体掩模版厂商之一。公司已完成两轮问询并更新披露招股书，拟融资6.63亿元。截至2023年6月30日，公司拥有发明专利15项、实用新型专利26项和计算机软件著作权31项。

投资要点：

1. 半导体掩模版是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是光刻工艺中的关键耗材，其品质直接关系到最终产品的质量与良率，在整个半导体产业链上有着非常关键的地位。
2. 龙图光罩掌握130nm及以上节点半导体掩模版制作的关键技术，形成涵盖CAM、光刻、检测全流程的核心技术体系，工艺水平、出货量及市场占有率均居国内企业前列。
3. 公司长期聚焦半导体掩模版研发，不断实现技术创新和产品迭代升级，掩模版制程能力和下游应用领域不断扩展，成功进入国内众多知名特色工艺半导体厂商供应商名录并建立起稳定的合作关系。
4. 公司已通过多个国内知名晶圆制造厂商的认证，并在部分制程节点占据了境外半导体掩模版厂商的市场份额。