事件:2023 年12 月13 日晶盛机电在SEMICON JAPAN 2023 日本东京半导体展会上展示了8 英寸碳化硅衬底片和8 英寸外延生长设备,8 英寸碳化硅衬底片已实现批量生产。
晶盛实现碳化硅设备自制,掌握核心长晶工艺。晶盛自2017 年开始碳化硅晶体生长设备和工艺的研发,(1)设备:公司坚定电阻法技术路线,并在2020 年建立长晶实验室和中试线,目前长晶和核心加工设备均为自制,设备国产化率达到90%以上。
(2)工艺:碳化硅衬底长晶最难的是温度、气体、压力的控制,工艺的把握决定了良率水平,晶盛光伏单晶炉的优势为软件算法自制,同时蓝宝石长晶也积累了经验,延续应用至碳化硅长晶。
产能兼容6-8 寸,8 寸是未来重点。晶盛规划了25 万片6 寸和5 万片8 寸衬底片产能,设备从长晶、切片、减薄/研磨、抛光、清洗/检测均兼容6-8 寸衬底,伴随良率近期逐渐在提高&摩尔定律的演绎,8 寸会快速替代6 寸,未来8 寸放量后晶盛规划的产能可切换为8 寸生产为主。
衬底片性能优越,与中芯集成等达成合作。目前8 英寸碳化硅衬底片已实现批量生产,可提供500um 和350um 两种厚度的8 英寸衬底片以满足不同客户要求。6 英寸和8 英寸量产晶片的核心位错可以稳定实现TSD<100 个/ cm2,BPD<400 个/cm2,达到行业领先水平。最新的研发数据核心位错缺陷得到更进一步的改善,TSD 和BPD 在90%以上面积上趋近0,目标在2024 年从研发推动量产,最终实现“TSDFREE+ near BPD FREE”的目标。主要客户包括中芯集成等。
布局碳化硅外延设备(MOCVD),与衬底片协同。晶盛为国内龙头,2023 年2 月推出6 寸双片式外延设备,同年6 月推出8 寸单片式设备,可兼容6、8 寸生产,解决了腔体设计中的温场均匀性、流场均匀性等,外延的厚度均匀性1.5%以内、掺杂均匀性4%以内。下游外延片厂商为晶盛衬底片+外延设备客户,形成协同。
盈利预测与投资评级:光伏设备是晶盛机电成长的第一曲线,第二曲线是光伏耗材和半导体耗材的放量,第三曲线是碳化硅设备+材料和半导体设备的放量。我们维持公司2023-2025 年归母净利润为47/58/70 亿元,对应PE 为11/9/8 倍,维持“买入”评级。
风险提示:下游扩产低于预期,新品拓展不及预期。
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(责任编辑:王丹 )
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