荷兰阿斯麦向英特尔交付全球首台2nm芯片制造光刻机，EXE系列将引入三星、台积电，关注波长光电、茂莱光学、炬光科技、苏大维格等企业

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荷兰阿斯麦公司表示，已开始向美国英特尔公司交付全球首台High NA EUV（高数值孔径极紫外）光刻机，意味着2nm及以下节点芯片制造的光刻环节得以实现。High NA EUV 光刻机主要技术革新在于实现了更大的数值孔径，根据瑞利公式，数值孔径越大则分辨率越佳。英特尔成为high NA EUV光刻机首个用户，预计英特尔会将High-NA EUV光刻设备应用于其Intel 18A工艺的开发和验证中。三星、台积电等晶圆厂亦将引入EXE系列。该光刻机顺利落地预将进一步打开集成电路先进制程市场空间。投资者可以关注波长光电、茂莱光学、炬光科技、苏大维格等企业，但也需要注意高数值孔径光刻机实际产线表现不及预期的风险。