揭秘光刻机：半导体产业的未来之星，国产化突破在即！

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看点一：光刻机是半导体制造的关键设备，它的性能直接影响芯片的工艺水平。市场上主要有五大类光刻设备，分辨率、套刻精度和产率是衡量光刻机性能的核心指标。分辨率决定了制程，而套刻精度和产率分别影响良率和产能。随着技术的发展，多重曝光技术也在提升芯片制程的同时，不改变光刻机的分辨率。

看点二：光刻机产业具有高度垄断性，全球市场主要由ASML、Nikon和Canon三家公司主导。其中，ASML在高端光刻机领域占据领先地位。国内企业如上海微电子正在努力突破技术壁垒，国产光刻机产业链正在逐步完善。

看点三：鉴于光刻机在半导体产业中的重要性，以及目前全球半导体产业的扩张趋势，光刻机市场前景广阔。同时，由于光刻机开发难度大，且受到海外制裁的影响，国产化显得尤为重要。投资者可关注炬光科技、茂莱光学等国内光刻机产业链相关企业。

风险提示：投资者需注意技术产品开发可能不及预期、海外制裁可能加剧以及下游需求可能不及预期的风险。