中微公司成功应用等离子体刻蚀设备，覆盖128层及以上的量产，满足5纳米以下器件制造需求

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【中微公司(688012)尹志尧透露，公司已将等离子体刻蚀设备成功应用于128层及以上的量产。在逻辑集成电路制造领域，公司的12英寸高端刻蚀设备已被国际知名客户采用在最先进的生产线上，并在5纳米、5纳米以下器件的关键步骤中发挥作用。同时，公司正在持续开发设备和优化工艺以满足先进集成电路厂商的需求。在3D NAND芯片制造领域，公司的等离子体刻蚀设备也已经投入128层及以上的量产，同时正在研发极高深宽比的刻蚀设备和工艺，以满足存储器件客户的需求。此外，公司还在开发更先进的刻蚀应用设备，以满足逻辑器件客户的需求。】