提升碳化硅衬底品质！天岳先进专利技术引领半导体行业新突破
2024年3月28日，山东天岳先进科技股份有限公司成功取得一项具有高表面清洁度的碳化硅衬底及其清洁方法的专利。
该发明涉及半导体材料处理技术领域，旨在提高碳化硅衬底C面和Si面的表面一致性。
经过清洁后的碳化硅衬底，在不同粒径范围内的颗粒个数均得到显著降低，展现了该清洁方法的卓越效果。
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（责任编辑：贺翀 ）
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