国林科技:臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用

2024-05-30 15:57:01 同花顺
新闻摘要
同花顺金融研究中心05月30日讯,有投资者向国林科技提问,请问公司有哪些光刻胶产品。公司电子级超纯臭氧气体发生器可产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧,臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。感谢您的关注

同花顺(300033)金融研究中心05月30日讯,有投资者向国林科技(300786)提问, 请问公司有哪些光刻胶产品?

公司回答表示,尊敬的投资者,您好。公司电子级超纯臭氧气体发生器可产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧,臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成 CVD 和 ALD 薄膜、氧化物生长、光 刻胶去除和多种清洁应用。感谢您的关注。

(责任编辑:王治强 HF013)
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