阿斯麦与IMEC共同启用的High-NAEUV光刻实验室在荷兰开幕，预计2025-2026年实现大批量生产，为未来光刻技术发展奠定基础。
【阿斯麦与IMEC合作的光刻实验室正式启用】比利时微电子研究中心与阿斯麦公司于6月3日共同宣布，位于荷兰费尔德霍芬的High-NAEUV光刻实验室已正式开幕。该实验室由双方共同运营，配备了High-NAEUV扫描仪及其配套处理工具。这一实验室的建立标志着向大规模生产High-NAEUV技术迈出了关键一步，预计将在2025至2026年间实现大规模生产。
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