【8 月 2 日，日本冲绳科学技术大学院大学官网有新报告】据其报告，该校设计了一种极紫外光刻技术，突破了半导体制造业的标准界限。此设计下的光刻设备能采用更小的 EUV 光源，功耗不到传统 EUV 光刻机的十分之一，可降低成本，并极大提高机器的可靠性与使用寿命。
张晓波 07-28 11:42
董萍萍 07-27 12:03
董萍萍 07-27 12:03
董萍萍 07-27 12:12
郭健东 07-24 17:40
郭健东 07-07 19:12
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