【冲绳科学技术大学院大学研发新型EUV光刻技术，有望大幅降低半导体制造成本】
8月2日，冲绳科学技术大学院大学官网发布最新报告，该校设计出一种极紫外光刻技术，该技术突破了半导体制造业的传统界限。新型光刻设备采用更小的EUV光源，功耗仅为传统EUV光刻机的十分之一，显著降低了成本。此外，新技术还大幅提高了机器的可靠性和使用寿命，为半导体行业带来重大变革。
董萍萍 07-27 12:03
董萍萍 07-27 12:12
郭健东 07-24 17:40
董萍萍 07-23 13:21
张晓波 07-23 09:22
郭健东 07-07 19:12
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