壹石通:高频高速覆铜板的功能填料需求趋势目前以亚微米高纯二氧化硅(硅微粉)为主

2024-08-08 16:40:45 和讯 

快讯摘要

壹石通:高频高速覆铜板的功能填料需求趋势目前以亚微米高纯二氧化硅(硅微粉)为主 每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:有报道称:铜箔积层板(CCL)制造商斗山电子已经确认向英伟达供应...

快讯正文

壹石通:高频高速覆铜板的功能填料需求趋势目前以亚微米高纯二氧化硅(硅微粉)为主 每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:有报道称:铜箔积层板(CCL)制造商斗山电子已经确认向英伟达供应HVLP(超低轮廓铜箔):一种高端电解铜箔,算力要求下,高速覆铜板对硅微粉的要求则更为严格,请问贵公司的Low-球形氧化铝是否有该方向的应用?未来是否也积极需求韩国的市场开拓? 壹石通(688733.SH)8月8日在投资者互动平台表示,高频高速覆铜板的功能填料需求趋势目前以亚微米高纯二氧化硅(硅微粉)为主,公司已具备相关产品的量产能力。韩国是公司重要的目标市场,目前已向部分用户送样评估。? (记者蔡鼎) 免责声明:本文内容与数据仅供参考,不构成投资建议,使用前核实。据此操作,风险自担。 每日经济新闻

(责任编辑:周文凯 )
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