苏大维格：光刻机新星崛起，已突破120线阻力位，进入起爆区

佳能发布新型纳米压印光刻机，挑战ASML市场地位 日本佳能公司近日宣布交付首台新型纳米压印光刻机，该设备通过将“印有电路图案的掩模像印章一样压入晶圆上的光刻胶中”来生产芯片，与传统光刻机相比，具有功耗低、成本低的优势。佳能表示，该设备经过改良后甚至能生产2纳米级半导体，有望挑战ASML在光刻设备市场的地位。 国内高新技术企业苏大维格是国内首批实现纳米压印技术产业化和商业化的企业，相关产品是公司收入的重要组成部分。近期，苏大维格股价底部成交量大幅放出，已突破120线阻力位，进入“临近年线”的起爆区，值得投资者重点关注。 【声明】本文内容仅供参考，不构成投资建议，投资有风险，交易需谨慎。