11 月 15 日，SK 海力士技术长称正考虑引进 4 亿美元的光刻设备生产下一代存储芯片。
【11 月 15 日，SK 海力士技术长 Seon-yongCha 称，正考虑引入 ASML 造价 4 亿美元的 HighNAEUV 光刻设备，用于生产下一代存储芯片。】SK 海力士技术长 Seon-yongCha 于 11 月 15 日表示，有引进相关光刻设备的打算。此设备造价达 4 亿美元，旨在助力下一代存储芯片的生产。
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