营收持续增长,净利润同比下滑主要受投资收益减少、研发投入高增等影响:公司预计2024 年实现收入90.7 亿元,同比+44.7%;其中刻蚀设备销售约72.8 亿元,同比+54.71%,MOCVD 设备销售约3.8 亿元,同比-18.1%,LPCVD 薄膜设备2024 年实现销售约1.56 亿元。营收显著增长主要得益于公司高端刻蚀设备付运量显著提升,LPCVD、ALD 等新产品形成重复订单,其中LPCVD 2024 年累计出货超100个反应台。公司预计实现规模净利润15.0-17.0 亿元,同比下降16.0-4.8%,主要系公司研发投入显著增加,研发支出同比+94.1%,以及2023 年同期基数较高(公司出售拓荆科技股权收益4.06 亿元);预计期间扣非净利润为12.8-14.3 亿元,同比+7.4%-20.0%。2024Q4 公司预计实现收入35.6 亿元,同比+73.0%;归母净利润5.9-7.9 亿元,同比-6.2%至+25.7%,归母净利润中值为6.9 亿元,同比+9.7%;扣非净利润4.7-6.2 亿元,同比+2.0%至+34.7%,扣非净利润中值为5.4 亿元,同比+17.9%。
Q4 盈利能力受研发投入高增影响有所下降:24Q4 公司营收和毛利润预告对应的毛利率为42.8%,同比-3.0pct/环比-0.9pct;营收和归母净利润预告中值对应的归母净利率为19.4%,同比-8.7pct/环比+0.2pct;营收和扣非净利润预告中值对应的扣非净利率为15.2%,同比-5.4pct/环比-0.8pct。
刻蚀产品持续领先,镀膜产品拓展顺利:(1)CCP 设备:在逻辑领域已对28nm 以上的绝大部分CCP 刻蚀应用和28nm 及以下的大部分CCP 刻蚀应用形成较为全面的覆盖,且已有大量机台进入国际5nm 及以下逻辑;截止2024Q3 已交付3800 个反应台。在存储领域,超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60:1 深宽比结构的能力,成功进入2D&3D 存储芯片产线。同时,公司积极布局超低温刻蚀技术,积极储备≥90:1 深宽比刻蚀技术。(2)ICP 设备:Primo Nanova ICP 在客户端安装腔体数量近三年CAGR 超70%,在先进逻辑芯片、DRAM 和3D NAND 产线验证推进顺利并取得客户批量订单。公司的TSV 刻蚀设备也已应用于先进封装。此外,公司正在研发用于5-3nm 逻辑芯片的ICP 刻蚀机。(3)MOCVD 设备:积极布局第三代半导体设备,现已在LED 等GaN 基设备市场占据领先地位,并在Micro-LED 领域的MOCVD 设备开发上取得良好进展。用于SiC 器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试。(4)薄膜沉积设备:公司首台CVD 钨设备付运到关键存储客户端验证评估,已通过客户现场验证,并获得客户重复量产订单,公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD 氮化钛设备也在稳步推进;EPI 设备也已完成多家先进逻辑器件与MTM 器件客户的工艺验证,并获得了客户的高度认可。
成立成都子公司,大力发展CVD、ALD 等关键设备研发与生产:公司计划于2025-2030 年期间投资约30.5 亿元成立成都子公司,建设研发中心、生产基地及配套设施。该项目将主要用于开展CVD、ALD 及其他关键设备的研发与生产工作,预计2030 年年销售额将达10 亿元。
盈利预测与投资评级: 我们维持公司2024-2026 年归母净利润预测分别为16.8/24.3/34.0 亿元,当前市值对应动态PE 分别为35/26/20 倍。基于公司较高的成长性,维持“买入”评级。
风险提示:晶圆厂扩产节奏不及预期,新品研发&产业化不及预期等。
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(责任编辑:郭健东 )
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