芯源微：国产替代率低空间大，2024研发投入增近50%

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【光刻工序国产替代率低，芯源微推进涂胶显影设备国产进程】 光刻工序在集成电路制造中至关重要，占产线50%时间和30%成本，也是芯片产线国产设备替代率最低的环节。前道光刻机国产替代率不足3%，前道涂胶显影设备被日本企业高度垄断，国产替代率不足10%。 芯源微是国内唯一可提供量产型中高端涂胶显影设备的企业。2002年创立，2019年在上交所科创板上市，成国内涂胶显影细分领域龙头。 芯源微推进国产替代面临重重困难，涂胶显影设备复杂，要与光刻机联机作业，且日系设备高度垄断市场。但随着研发推进，其将进一步推动国产替代。 国产替代率低意味着发展空间大。芯源微前道设备覆盖28纳米以上工艺节点，前道物理清洗设备达国际先进水平，市占率第一；化学清洗设备聚焦先进制程。后道封装领域产品市占率超50%，还布局新兴领域。 宗润福称，沈阳有产业基础和配套优势，人才稳定且有工匠精神。在政府支持下，沈阳零部件与半导体装备有影响力。 芯源微立足辽沈自主研发，研发费用多年占营收超10%。2024年研发投入2.97亿元，同比增近50%，技术突破将转化为市场成果。

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