上海新阳：半导体国产替代先锋

7月24日，清华大学开发出新型EUV光刻胶，加速光刻胶国产替代竞赛。国内彤程新材、南大光电等是先行者。上海新阳表现突出，2020 - 2024年平均研发费用率达17.9%，远超同行。2024年底光刻胶销售额同比增超100%，KrF光刻胶批量化销售，浸没式ArF光刻胶获订单，产能规划不断提升。虽此前研发投入影响净利润，但2023 - 2025年一季度净利润持续正增长，营收年均复合增速超同行。其业务渗透半导体各关键环节，掌握多项核心技术。随着半导体周期回暖、端侧AI爆发，行业需求旺盛，上海新阳有望乘势而上，在国产替代中赢得先机。