拓荆科技：46亿定增，多家增资拓荆键科估值25亿

【9月12日晚拓荆科技拟对控股子公司增资并披露46亿定增预案】 9月12日晚间，拓荆科技透露，拟与多家外部投资者对控股子公司拓荆键科增资。由大基金三期持股99.9%的国投集新在增资方名单中，增资后将成拓荆键科第二大股东。 天眼查信息显示，截至目前，国投集新尚无对外投资，大基金三期持股的三家公司均为投资平台，拓荆键科或成大基金三期首个半导体产业投向项目。 同时，拓荆科技披露46亿元规模定增预案，募投项目包括高端半导体设备产业化基地建设、前沿技术研发中心建设及补充流动资金。 拓荆科技业务属高端半导体专用设备领域，拓荆键科聚焦三维集成设备研发与产业化应用，目前仍处发展早期。2025年上半年，拓荆科技营收约19.54亿元，拓荆键科营收仅114.55万元，净亏损3746.76万元。 此次增资旨在推动拓荆键科在三维集成设备领域发展，6家主体参与。拓荆科技与国投集新均出资不超4.5亿元，两家员工持股平台合计出资不超1亿元，上海华虹虹芯二期和海宁融创出资分别不超3000万元和950万元。 增资完成后，拓荆科技对拓荆键科持股降至约53.57%，国投集新持股约12.71%。此次对拓荆键科定价采用收益法评估，以2024年12月31日为基准日，投前估值25亿元，增值率4427.36%。 除发展三维集成设备，拓荆科技在薄膜沉积设备领域发力。定增预案显示，计划实施“高端半导体设备产业化基地建设项目”，提升产能，支撑产品产业化，提升生产效率。 拓荆科技称，新兴领域需求带动下，高端半导体设备市场需求上升，目前产能预计无法满足未来订单需求。该项目拟投入17.68亿元，建设期5年。 此外，拓荆科技还计划投入20亿元建设“前沿技术研发中心建设项目”，对现有薄膜沉积设备进行工艺优化和性能提升。

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