好消息不断,我国光刻胶领域迎重磅突破;机构称半导体材料板块正处于需求扩张与国产替代的共振阶段,核心收益股梳理

2025-10-27 14:21:19 和讯网 
①:国家标准委网站显示,我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外(EUV)光刻胶测试方法》作为拟立项标准10月23日开始公示; ②:北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构; ③:根据弗若斯特沙利文市场研究,预计2028年境内半导体光刻胶市场规模将达到150.3亿元,年复合增长率18.5%; ④:光大证券指出,半导体材料板块正处于需求扩张与国产替代的共振阶段。光刻胶等核心材料受益,附名单>>>

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