隆扬电子:目前已经掌握铜箔表面粗糙度RZ值≤0.2微米的技术储备 每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:公司是否有HVLP6技术储备?HVLP6有何技术优势及市场前景?对公司未来有何积极影响?...
隆扬电子:目前已经掌握铜箔表面粗糙度RZ值≤0.2微米的技术储备 每经AI快讯,有投资者在投资者互动平台提问:公司是否有HVLP6技术储备?HVLP6有何技术优势及市场前景?对公司未来有何积极影响? 隆扬电子(301389.SZ)12月2日在投资者互动平台表示,公司采用独特的先进制程不断钻研高频高速铜箔的技术,目前已经掌握铜箔表面粗糙度RZ值≤0.2微米的技术储备。公司研发储备产品PTS-2系列高频铜箔(HVLP6等级铜箔)未来可以应用在50GHz以上应用场景。该产品为公司研发储备产品,以应因客户产品的技术迭代。 (记者王瀚黎) 免责声明:本文内容与数据仅供参考,不构成投资建议,使用前核实。据此操作,风险自担。 每日经济新闻
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