12 月 18 日消息，中国年初造出 EUV 光刻机原型机，目标 2028 年产芯片，或 2030 年量产，欲摆脱外部依赖
【12月18日消息，中国科学家年初在深圳打造出EUV光刻机原型机】 今年初，中国科学家于深圳打造一台极紫外光光刻机原型机，用于生产尖端半导体芯片，为人工智能、智能手机等提供动力。此原型机由荷兰芯片设备制造商ASML前工程师打造，他们对ASML的EUV光刻技术实施逆向工程。 目前，该原型机能够产生EUV光，但尚未生产出能运作的芯片。其目标是2028年实现芯片生产，不过更可能到2030年实现量产。 EUV光刻机是全球芯片竞赛中最精密的制程之一，可利用极紫外光在矽晶圆蚀刻超精细电路，生产强大芯片。此前该技术被西方供应商垄断，中国目标是用国产设备生产先进芯片，摆脱对美及其盟友供应链的依赖。
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