上海新阳：国产半导体材料的潜力股

1月28日，全球光刻机巨头ASML发布2025年财报，显示全球光刻迈入EUV主导时代，我国对其营收贡献环比降至36%，国产替代加速。上海新阳作为光刻工艺材料核心供应商，早在2022年申请“EUV金属光刻胶”专利并于2025年授权。2024年光刻胶业务跨越式增长，2025年预计净利润大增。其研发投入强度超同行，构建五大技术平台，实现资源复用与协同闭环，规模和盈利能力双升。产品填补国内空白，成众多产线基准材料供应商。不过，光刻胶产能与同行有差距，正规划未来三年建成500万吨/年产能，投入18.5亿建总部及研发中心。虽EUV技术待开发、产能未全释放，但有望在国产替代中持续发展。