昊华科技：公司电解制氟核心技术可延伸开发高纯氟气混配气体产品，相关产品处于研发阶段

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昊华科技：公司电解制氟核心技术可延伸开发高纯氟气混配气体产品，相关产品处于研发阶段 每经AI快讯，有投资者在投资者互动平台提问：贵公司已澄清暂无产品直接用于光刻胶。那么请问，贵公司的电子特气产品（如高纯四氟化碳、六氟化硫、六氟化钨等）是否服务于光刻胶的上下游产业链（如晶圆制造、刻蚀、清洗环节）？在成为中国领先的综合性电子材料供应商的战略下，贵公司是否有计划将自身的氟化工技术优势，延伸至与光刻胶配套的相关含氟化学品领域？ 昊华科技（600378.SH）2月9日在投资者互动平台表示，公司电子特气产品包括电子级三氟化氮、四氟化碳、六氟化硫、六氟化钨、硒化氢、硫化氢、溴化氢、三氟化硼等，主要应用于集成电路制造的清洗、刻蚀、离子注入、化学气相沉积等制程工艺。公司电解制氟核心技术可延伸开发高纯氟气混配气体产品，相关产品处研发阶段。 （记者王晓波） 免责声明：本文内容与数据仅供参考，不构成投资建议，使用前核实。据此操作，风险自担。 每日经济新闻