薄膜沉积设备赛道火热！PVD、CVD、ALD三大主流共舞，这些公司或成最大受益者！

背景介绍：

国内半导体产业正在蓬勃发展，而海外对华半导体制裁不断加码。在这种背景下，国内半导体设备厂商面对优越的市场环境和政策支持，前景较为乐观。作为半导体核心设备之一，薄膜沉积设备在半导体制造中具有重要作用，产业链共同发力，PVD、CVD、ALD等薄膜沉积设备赛道在未来较长时间内将持续火热，建议积极关注。

投资策略：

1. 国内半导体产业蓬勃发展，为半导体设备公司提供了广阔的平台市场，薄膜沉积设备厂商深度受益； 2. PVD、CVD是薄膜沉积主流，ALD作为沉积设备新宠，在先进制程中的应用越发凸显； 3. 国内多家厂商在薄膜沉积设备领域均有涉猎，侧重点有所差异，竞争格局较为良性； 4. 风险提示：(1)美国对华半导体制裁的风险。(2)国产化替代市场需求不及预期的风险。(3)国内公司技术突破不及预期的风险。

轶事趣闻：

在20世纪80年代末，一家瑞士公司研发出了一种新型的薄膜沉积设备，引起了全球半导体业的轰动。这种设备可以让单个芯片上的晶体管数量增加到原来的10倍以上，极大地提升了生产效率和芯片性能。然而，这家瑞士公司并没有将其技术和设备出售给其他公司，而是选择自己生产芯片并垄断市场。这种行为引起了其他公司的不满和抵制，最终导致这家瑞士公司的市场份额急剧下降，甚至被迫退出芯片制造领域。

背后原因：

这家瑞士公司当时的行为是源于当时半导体行业处于高度垄断状态，各大公司之间互相掣肘，难以进行技术交流和合作。此外，当时的半导体制造技术还不够成熟，对于新型设备的掌握和使用也存在很大的难度，这也导致了一些公司选择自己生产芯片而不是购买设备。

与参考文章的联系：

这个轶事趣闻提醒我们，虽然新型的薄膜沉积设备在半导体制造中具有重要作用，但是过度依赖某一家公司或某一种设备并不是明智的选择。半导体产业需要共同发力，加强技术交流和合作，才能推动整个行业向前发展。

和讯自选股写手

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