机械设备行业事件点评报告：内外共同助推 关注以半导体设备为首的自主可控方向

　　中美经贸科技摩擦或加剧，自主可控是必然。彭博社7 月17 日报道称，美国正施压日本和荷兰等盟国企业，计划进一步收紧对华芯片出口限制。有知情人士透露，美方还威胁称，若东京电子和ASML 等公司继续向中国提供先进半导体技术，恐将面临美国最严厉的贸易限制措施。拜登政府频频对我国半导体产业实施制裁，往后来看，中美经贸科技领域的摩擦或将升级，叠加二十届三中全会公报提出健全提升产业链供应链韧性和安全水平制度，我们认为以半导体设备为首的自主可控方向值得关注。
　　去日化预期或加强。我们在《半导体设备专题报告（一）：前道设备——扼喉之手，亟待突破》一文中对历来国际上对我国半导体产业的制裁做了梳理，前期制裁主要是限制美国公司向我国出口相关的半导体设备，国产替代主要面向“去美化”。可以看到，近一年来，日本半导体设备代表性企业TEL来自中国大陆的季度营收不断实现同环比的正增长，屡创新高。若日本收紧对我国半导体设备的出口，国内半导体制造厂商或要实施“去日化”，这会进一步加强国产替代趋势。
　　日本有哪些细分领域的设备供应商，哪些方向的国产替代空间预期抬升？
　　我们曾在报告《半导体设备专题报告（一）：前道设备——扼喉之手，亟待突破》中分析过各个细分领域的竞争格局情况，日本的前道设备供应商主要有TEL、DNS 和荏原，其中：
　　1、TEL ：该公司布局环节较多，在刻蚀领域和AMAT、LAM 居于行业前三，主要面向介质和金属刻蚀；在薄膜沉积领域，CVD、ALD 领域处在行业前三；在涂胶显影领域更是一家独大，占据我国近90%的市场份额，这也是我国当前涂胶显影设备国产化率相对较低的原因之一；在清洗领域也占据优势地位，DNS、TEL、LAM 和SEMES 全球市占率在90%以上。
　　2、DNS：主营湿法设备，其从1997 年开始做清洗设备，单其一家的全球清洗设备市占率在33%以上，但是近些年来其市占率有所下滑，在国内市场上面临多家国产设备厂商的竞争挑战。
　　3、荏原：主营各类流体机械及系统，环境工程和精密机械，其和AMAT 在CMP 设备领域合计占领90%的市场份额，尤其在先进制程领域，二者更是近乎垄断。
　　根据我们的测算，当前细分设备的国产化率排序为：清洗>CMP>刻蚀≅薄膜沉积>量测检测>涂胶显影>离子注入，而日本企业在不同领域的竞争优势排序大致为：涂胶显影>清洗>荏原>薄膜沉积>刻蚀>量测检测>离子注入。
　　我们认为低国产化率且日企占据优势地位的细分设备方向值得关注。
　　建议关注：芯源微、华海清科、北方华创、中微公司、拓荆科技、中科飞测。
　　风险提示：下游扩产进展不及预期风险、设备厂商研发进展不及预期风险、零部件供应风险等。
【免责声明】本文仅代表第三方观点，不代表和讯网立场。投资者据此操作，风险请自担。

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