国产光刻机入选工信部推广目录 产业链这些上市公司“有料”

2024-09-20 07:26:50 每日经济新闻 
新闻摘要
其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。据东兴证券研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,市场主流有i-Iine、KrF、ArF、ArFi、EUV五大类。此外,该系统可以在偏振照明下实现低至57nm的生产分辨率

近期,工信微报微信公众号发文披露《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中,在电子专用设备一栏,氟化氪光刻机、氟化氩光刻机位列其中。该资料显示,氟化氩光刻机具有65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度。

东兴证券(601198)研报,光刻机可分为直写光刻机与掩膜光刻机,市场主流有i-Iine(汞线)、KrF(氟化氪)、ArF(氟化氩)、ArFi(浸润式氟化氩)、EUV(极紫外)五大类。

此次入选推广目录的氟化氩光刻机,应属于干式ArF光刻机。在具体指标上,与ASML旗下TWINSCAN NXT:1470 以及TWINSCAN XT:1460K类似。

国产光刻机实力几何?

据工信微报发文,此次指导目录是为促进首台(套)重大技术装备创新发展和推广应用,加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同。

具体来看,氟化氪光刻机晶圆直径为300mm(12英寸),照明波长为248mm,分辨率≤110nm,套刻≤25nm。相比之下,阿斯麦(ASML)的氟化氪光刻机型号有TWINSCAN NXT:870、TWINSCAN XT:860N 和 TWINSCAN XT:860M。这三个型号,波长均为248mm,分辨率≤110nm。

而指导目录中更为先进的氟化氩光刻机,其照明波长为193mm,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。这一数据与ASML旗下TWINSCAN XT:1460K 最为接近。该型号照明波长为193mm,分辨率≤65nm。此外,该系统可以在偏振照明下实现低至57nm的生产分辨率。

相比之下,ASML浸润式光刻机TWINSCAN NXT 1980Fi分辨率≤38nm。据民生证券研报,该型号可实现2.5nm的套刻精度(MMO)。

据东海证券援引ASML官网数据,2023年各类光刻机均价为:EUV(17386万欧元)、ArFi(7196万欧元)、ArFdry(2742万欧元)、KrF(1192万欧元)、i-Iine(399万欧元)。

东海证券认为,目前光刻机国产化率仅为2.5%,整机技术与海外差距较大,5~10 年内90nm、28nm光刻机的研发量产较为关键。

光刻机产业链亟须发展

东海证券称,根据中国国际招标网信息,半导体设备招标中,刻蚀、沉积等核心设备的国产化率获得了较大的提升,核心在于技术上我国相关企业已经逐步追赶上海外企业;但光刻机作为核心设备,国产化率不足3%,核心原因在于零组件供应与整机技术与海外差距较大。

9月18日,东方财富(300059)概念板块中,光刻机(胶)板块排名靠前,板块整体涨幅达2.47%。其中,同飞股份、波长光电均收获20%涨停;新莱应材(300260)上涨12.40%。此外,张江高科(600895)、海立股份(600619)、凯美特气(002549)等也涨停。

张江高科受关注,主要因为其曾投资上海微电子。张江高科于9月10日在投资者交流平台表示,公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子2.23亿元,持有上海微电子10.779%的股权,后续未增持或减持。

东兴证券称,上海微电子是我国第一家也是目前唯一的光刻机巨头,出货量占国内市场份额超过80%,产品主要涉及ArF、KrF和i-line领域,其已具备90nm及以下的芯片制造能力。

光刻机零部件方面,同飞股份曾在2023年中报表示,其液体恒温设备在半导体制造设备领域,主要应用于光刻机、刻蚀机、研磨抛光机等关键设备的温度控制。

不过,根据东兴证券研报,光刻机核心组件包括光源系统、双工作台、物镜系统、对准系统、曝光系统、浸没系统、光栅系统等。配套设施包括光刻胶、掩膜版、涂胶显影等。

光源系统方面,据华金证券,针对准激光光源,科益虹源主要研发248nm准分子激光器、干式193nm准分子激光器等;福晶科技(002222)研发KBBF晶体。

另据东兴证券,波长光电为国内激光光学元件的主要供应商,目前,公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力,公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套。

波长光电曾于2023年9月15日披露投资者活动记录表称,公司在半导体领域主要涉及两个领域:一个是生产领域,即曝光机、光刻,公司可提供大口径光学镜头用于检测,做折反、投射,还可以提供平行光源系统;另一个是检测领域,公司可提供检测设备上的光学元件、组件,也可为客户定制开发、装调子系统。

物镜系统方面,东兴证券称,茂莱光学光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术已实现产业化。

东海证券研报显示,中国2023年进口光刻机数量高达225台,进口金额高达87.54亿美元,进口金额创下历史新高,预计3~5年内我国光刻机仍主要依赖进口。一台先进的光刻机有多达10万个零部件,整体来看我国半导体零组件的国产化率非常低,尽管在各个赛道均有相关的国有企业在不断发展,但距离海外企业依然有较大的差距,同时也预示着国内零组件企业公司有较大的发展机遇。

(责任编辑:张洋 HN080)

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