国产光刻机与CIS芯片需求增长，强劲复苏

【快讯】9月9日，新发布的国产光刻机技术推广目录中，两款国产DUV光刻机入选。尽管这两款光刻机属于中端二代产品，但通过多重曝光技术，仍能实现28nm制程，满足当前市场需求。此举标志着国产光刻机技术已具备全产业链国产替代能力，并预示着芯片需求端的强劲复苏。2024年初以来，消费电子带动的半导体行业复苏明显，存储芯片和CPO光模块订单大幅增长。智能手机、智能汽车及AI应用等领域对CIS图像传感芯片的需求尤为旺盛，预计到2026年，全球CMOS图像传感芯片市场规模将达269亿美元，年复合增速12%。晶方科技作为CIS封测领域的龙头企业，凭借垂直优势和客户资源，业绩已实现大幅反转，未来有望继续受益于市场需求的增长。