深度金选|上市十年登顶巅峰！南大光电新增长曲线一波三折？四季度净利润上演“变脸”剧情

　　【长话短说】

　　上市十年以来登顶业绩巅峰！南大光电(300346)营收和净利润创纪录实现“大丰收”，半导体行业景气状况无疑是首要的业绩驱动因素，但是“成也萧何，败也萧何”。

　　看似风光无限，南大光电自二季度之后营收不断下滑，颓势逐渐加剧，甚至在四季度上演了净利润迅速变脸的戏剧性一幕，亏损惨重，半导体的周期性下行致使经营风险波动加大。

　　回顾历史业绩，在登陆资本市场的十年间，南大光电历年业绩波动较大，尤其是发展失速最为严重的几年，在曲折震荡中备受业绩低潮的煎熬摧残。

　　聚焦当前矛盾，南大变现能力承压，存货跌价风险和坏账风险升高，研发投入总量和占比均在逐年收缩。ArF光刻胶至今还未形成规模化销售，仅有少量供货，产业化之路一波三折。

　　【详细全文】

    一、上市十年以来巅峰时刻，四季度上演“变脸”剧情

　　南大光电是从事先进电子材料生产、研发和销售的高新技术企业，产品广泛应用于集成电路、平板显示、LED、第三代半导体、光伏和半导体激光器的生产制造。

　　日前，南大光电披露年报，2022年公司实现营业收入15.81亿元，同比增长60.62％；净利润1.87亿元，同比增长37.07％，营收和净利润均达到公司上市十年以来最高水平。

　　在业绩驱动因素中，半导体行业景气状况至关重要。目前，全球正在进行半导体产业链的第三次转移进程中，2022年国内晶圆制造新建厂商数量增加，进入产能高速扩张期，驱动配套半导体材料行业需求持续上升。

　　受益于此，南大光电主要产品发货量、销售额和利润在2021年创新高的基础上，实现业绩新突破。

　　从营收结构来看，特种气体占比节节攀升。2022年南大光电MO源产品实现营业收入2.13亿元，同比增长28.01％，占当期营收的比例为13.47％，毛利率为40.1％，同比微降0.12个百分点。

　　特气产品实现营业收入11.95亿元，同比增长63.46％，占营收的比例进一步提升至75.58％，且毛利率为48.88％，同比提升3.87个百分点，带动公司主营业务毛利率整体提升2.82个百分点至46.94％。特种气体已经成为南大光电核心的业绩来源。

　　回顾历史业绩，在登陆资本市场的十年间，南大光电历年业绩波动较大，尤其是发展失速最为严重的几年，在曲折震荡中备受业绩低潮的煎熬摧残。

　　2012年8月，南大光电在创业板上市，上市前一年，公司实现净利润1.78亿元，达到阶段性高峰，但上市后南大光电业绩增长乏力，2012年至2016年连续五年业绩下滑，其中2016年公司净利润和扣非净利润分别仅为754.87万元、20.88万元，成为公司历年来业绩低谷。

　　不过，2017年开始，南大光电业绩触底反弹，直至2022年营收、净利润均达到上市十年以来最高水平。但是业绩反转也并非一帆风顺，南大光电分别在2019年和2020年再次接连“触礁”，出现扣非净利润负增长。

　　此外，分季度表现来看，南大光电自二季度之后营收不断下滑，颓势逐渐加剧，甚至在四季度上演了净利润迅速变脸的戏剧性一幕，亏损惨重。半导体企业受半导体行业的景气状况影响较大，经营状况与半导体行业的周期特征紧密相关，半导体自去年以来周期性下行，行业发展过程中的波动，可能使南大光电面临不小的行业经营风险。

　　尽管2022年经营业绩提升，但同期南大光电经营活动产生的现金流量净额为2.29亿元，同比减少12.49％，变现能力承压。同时存货金额大幅攀升，应收账款持续增长，存货跌价风险和坏账风险升高，存货管控能力、应收账款催收力度有待加强，否则流动资金紧张状况难有改善。

　　长期以来，先进制程半导体前驱体材料、高端光刻胶等电子材料领域的核心技术一直掌握在少数国外厂商手中。由于技术封锁，先进电子材料的精度、纯度标准较高，对产品性能指标要求严格，对于南大光电而言，依靠自主研发突破技术瓶颈难度极高。

　　二、ArF光刻胶产业化受阻：新增长曲线一波三折？

　　在半导体材料中，光刻胶具备较高的技术壁垒和较好的发展前景，因此，南大光电“ArF光刻胶产品的开发和产业化”项目自立项起，就备受投资者关注，有望打造增长第三极，可遗憾的是，南大光电的ArF光刻胶至今还未形成规模化销售，产业化之路一波三折。

　　光刻胶是光刻工艺中最核心的耗材，其性能决定着光刻质量，主要应用于集成电路和半导体分立器件的细微图形加工。近年来，随着半导体行业的蓬勃发展，尤其是下游晶圆厂产能扩建带来的的庞大需求，光刻胶市场需求保持了良好的增长态势。

　　根据ResearchAndMarkets数据，预计2026年全球光刻胶市场有望达127亿美元，年复合增长率达6.5%。尽管市场空间广大，但是光刻胶的高技术壁垒不可忽视。目前，半导体光刻胶核心技术主要掌握在日、美等国际大公司手中，全球供应市场高度集中，日本JSR等五家龙头企业占据了全球光刻胶市场超80%的份额。

　　而我国光刻胶主要生产中低端产品，自给率较低。在半导体光刻胶方面，g/i线胶自给率约10%，KrF胶自给率不足5%，ArF胶还基本依靠进口，而EUV胶还仍处研发阶段。因此，实现高端光刻胶进口替代，是提升国家关键材料领域自主可控水平，解决“卡脖子”技术难题的其中一环。

　　公开信息显示，南大光电的光刻胶项目原计划于2021年底完成建设。项目在实际投入过程中受到新冠疫情、客户验证需求变化、公司实际经营情况等多重因素的影响，尤其是项目所需的缺陷检测等关键设备采购周期延长，安装、调试工作也相应后移，导致该项目建设进度不及预期，因此延期至2022年底。

　　而且由于是进口替代，所以研发的产品需要适应客户端的工艺参数，留给南大光电调整空间很小，所以客户验证难度大。究竟何时才能实现批量销售，更是一个未知数。

　　值得一提的是，和南大光电在光刻胶项目上波折迭出、意外频发不同，浙江奥首材料开发的新产品“14nm节点以上芯片光刻胶剥离液”通过了专家验收评审，已实现量产，在解决高端材料“卡脖子”问题上又攻克一城。

　　另外，在国家知识产权局的专利检索系统中，通过统计发明专利、实用新型专利和外观设计专利的数据占比可以发现，南大光电专利申请项目主要集中在先进前驱体、电子特气这两大板块，光刻胶相关专利则寥寥无几，即使在整体研发上，南大的研发投入总量和占比均在逐年收缩。

　　光刻胶领域的研发短板，或将制约南大光电光产业化进程和市场竞争力，目前刻胶板块营收贡献度处于偏低的状态，仅有少量供货，尚未规模量产，短期内可能依然难有起色。