8 月 2 日，日本冲绳科学技术大学院大学设计 EUV 光刻技术，降低成本并提升光刻机性能。
【8 月 2 日，日本冲绳科学技术大学院大学官网最新报告显示，该校设计出一种极紫外（EUV）光刻技术。】该校设计的光刻设备能采用更小的 EUV 光源，功耗不到传统 EUV 光刻机的十分之一。这降低了成本，并大幅提高机器的可靠性和使用寿命，超越了半导体制造业的标准界限。
![乙级测绘资质证书[乙测资字11513208]](https://img.hexun.com/chzzzs.jpg){kind=link}
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