8 月 2 日，日本冲绳科学技术大学院大学设计 EUV 光刻技术，降低成本提高设备性能。
【日本冲绳科学技术大学院大学设计出新型光刻技术】8 月 2 日电，日本冲绳科学技术大学院大学官网最新报告称，该校设计了一种极紫外光刻技术。此技术超越半导体制造业标准界限，光刻设备采用更小 EUV 光源，功耗不到传统 EUV 光刻机十分之一，能降成本并大幅提高机器可靠性和使用寿命。
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