【台积电在 2nm 制程节点获重大突破】台积电在 2nm 制程节点上有重要进展,将首次采用 Gate-all-aroundFETs 晶体管技术,还结合了 NanoFlex 技术,给芯片设计人员带来前所未有的标准元件灵活性。和当前 N3E 工艺相比,N2 工艺在相同功率下性能能提升 10%至 15%,相同频率下功耗降低 25%至 30%,晶体管密度提升 15%。台积电每片 300mm 的 2nm 晶圆价格或超 3 万美元,高于之前预计的 2.5 万美元,目前 3nm 晶圆价格约 1.85 万至 2 万美元,4/5nm 晶圆价格在 1.5 到 1.6 万美元之间。
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张晓波 10-05 10:21
张晓波 10-05 10:03
张晓波 10-05 09:51
王丹 09-23 12:00
张晓波 09-20 13:51
周文凯 09-19 17:16
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